مرجع دانلود پاورپوینت های درسی

حجم فایل : 1.2 MB
نوع فایل : پاور پوینت
تعداد اسلاید ها : 21
بنام خدا پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار
ویژگی ها روش ها و کاربردها واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد. یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvdدر اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود. از این فرایند برای تولید رسوبهایی از فلزات خالص ‚آلیاژها ‚ترکیبات و سرامیک ها بر روی انواع مختلف زیر لایه ها استفاده می شود سرعت تشکیل پوشش در این روش تا حد 50 میکرون در دقیقه می تواند باشد. کاربرد این روش تقریبا تمام زمینه های صنعتی وتکنولوژی را در بر گرفته و دامنه ی وسیعی از خواص سطحی مانند خواص الکتریکی ‚نوری‚مکانیکی وشیمیایی را میتوان توسط آن بهبود بخشید. روش های ایجاد پوشش های PVD: 1:رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی((Evaporation deposition
2:پراکنشی(Sputtering)
3:پوشش دهی یونی(Ion Plating)
در روش تبخیر در خلا از یک منبع بخار و یک زیر لایه در یک محفظه خلا استفاده می شود. محفظه تا فشاری معمولا کمتر از 10-5Torr تخلیه میشود.منبع بخار معمولا یک بوته گرم شده توسط روش مقاومتی یا القایی‚یک فیلمان یا صفحه گرم شده از روش مقاومتی و یا یک تفنگ پرتوی الکترونی است. بدین ترتیب ماده پوشش به صورت بخار در امده و اتم های بخار در خط مستقیم به سمت زیر لایه حرکت کرده بر روی ان کندانس شده ورسوب میکند. 1.تبدیل ماده پوشش به بخار
2.انتقال بخار بر روی سطح قطعه
3.جوانه زنی ورشد پوشش برروی قطعه رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی((Evaporation deposition مراحل ایجاد لایه پوشش: روش های ایجاد بخار مقاومتی
القایی
پرتو الکترون
قوس الکتریک
لیزری کاربردها 1: کاربردهای اپتیکی:ساخت لنزهایی از جنس SiO2
2: ایجاد پوشش های باندی (MCrAlY)
3: ایجاد لایه فلزی از جنس Al , Fe , Ni وCo بر روی جنس های مختلف (پلاستیکی یا فلزی)
4:ایجاد مانع های حرارتی(Thermal barrier) ازجنس ZrO2 روش پراکنشی در این روش یک نمونه از ماده پوشش و زیر لایه در محفظه خلاء قرار می گیرد.
محفظه تا فشار Torr 1 torr = 133.322368 pascals))
و یا کمتر تخلیه شده و سپس یک گاز خنثی معمولاً آرگون به داخل آن  به نحوی فرستاده می شود که فشار تا حد   تور و یا بیشتر افزایش یابد.
نمونه پوشش که در بوته است از زمین عایق شده است به یک منبع الکتریکی با 1000 ولت منفی DC وصل می شود اعمال این ولتاژ  تخلیه شدیدالکتریکی را موجب می شود.بنابراین هاله ای از یون ها...